本研究中的 TFET 为浮体 SOI 器件,因此应首先评估执行电荷泵浦测量的可行性 [19]。当用具有恒定基极电平和幅度的方波脉冲栅极时,漏极和源极保持在相同的电位,该电位扫过 0 至 1.5 V 的适当范围,以激活 Si/栅极电介质界面处的生成-复合过程。发现在 P+ 源极接触处测得的电流与栅极脉冲的频率成正比,证明了电荷泵浦装置的正确性 [20],[21]。因此,即使我们的基于 SOI 的 TFET 中没有体接触,由于源极和漏极具有相反的掺杂类型,我们仍然可以执行电荷泵浦测量来评估 N it 。对于下面所示的电荷泵结果,栅极由 500 kHz 方波驱动,其边沿时间为 100 ns,幅度为 1.5 V,基准电平为 0 V,脉冲占空比为 50%。