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摘要 在本文中，我们提出了一种新颖的数学模型，该模型在一定程度上复制了一般卷对卷纳米压印光刻 (R2RNIL) 制造工艺的工作方式。我们首先确定制造商在提高生产率和控制制造过程方面面临的一些当前挑战和问题。接下来，我们描述和分析构成典型 R2RNIL 工艺的主要物理现象以及用作涂层的聚合物的典型材料特性，并制定符合物理定律的数学模型。然后，我们提出一些数值模拟，这些模拟定性地再现了实验中发现的几个特征，这些特征是在使模型适合数值计算的线性化假设下发现的。此外，我们确定了影响 R2RNIL 的一些关键工艺参数和材料特性，以及它们如何用于材料设计和工艺控制。最后，我们将讨论未来的工作和一些可以在一般框架范围内研究的应用。 关键词：多相多尺度建模、粘弹性材料、光化学键合、混合物力学
卷对卷纳米压印的综合方法......
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