机构名称：
¥ 1.0
钛酸钙和钡掺杂的钛钙，Ca 1-X Ba X TiO 3（X = 0.1，0.2，0.3）沉积在硅底物上的薄膜是通过自旋涂层技术制备的。通过各种旨在理解样品的结构和电气性能的各种特征技术，研究了制备的未掺杂和BA掺杂的Catio 3薄膜。这些薄膜的特征是具有均匀，无裂纹显微结构的光滑表面和密集的填充，这与扫描电子显微镜（SEM）分析一致。通过记录X射线衍射模式（XRD）研究了成分对这些样品相形成的影响，并且观察到晶格参数随钡的掺杂剂浓度而变化。所有薄膜的介电常数都是通过使用LCR计的电容 - 电压测量来确定的（0.1 kHz至100 kHz）。
BA ...
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