近年来,微电子技术发生了巨大的变化,现代 CMOS 技术使集成电路的性能和复杂性稳步提高。图 1(a) 显示了传统 n 型体硅 MOSFET 的示意图,它由 p 型衬底内重度 n 型掺杂的源极和漏极区组成。此外,MOSFET 的栅极电极长度为 L,宽度为 W,栅极电极通过厚度为 d ox 的绝缘体(通常为 SiO 2 )与体硅衬底绝缘。源极-通道和通道-漏极界面处的两个 pn 结(见图 1(b))可防止电流从源极流向漏极。施加正栅极电压 V gs > V th ,会在通道/栅极氧化物界面处创建反型层(p 型衬底中的电子)。在这种情况下,如果施加额外的漏极-源极偏压 V ds,电流就可以流过该器件。