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摘要:激子极化子代表了一种有前途的平台,它结合了光子和电子系统的优势,可用于未来的光电设备。然而,由于制造方法成本高、复杂,与为微电子开发的成熟 CMOS 技术不兼容,因此它们的应用目前仅限于实验室研究。在这项工作中,我们开发了一种创新、低成本且与 CMOS 兼容的方法来制造大表面极化子设备。这是通过热纳米压印直接图案化卤化物钙钛矿薄膜来实现的。结果,我们在室温下观察到厘米级上质量因子 Q ≈ 300 的高度均匀的极化子模式。令人印象深刻的是,该工艺提供了高可重复性和保真度,因为同一个模具可以重复使用 10 次以上,以将钙钛矿层压印在不同类型的基板上。我们的研究结果可以为生产在室温下运行的低成本集成极化子设备铺平道路。

纳米压印激子极化子超表面

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