机构名称：
¥ 1.0
在这项研究中，研究了低能（1 keV）AR +离子束照射对多晶Ti磁盘形态的影响。通过切割和机械抛光商业棒来制备目标。通过扫描电子显微镜（SEM）和机械辅助学来表征辐照前后的表面地形。使用各种入射角（αI）以10 18离子/cm 2的总剂量从正常到放牧的几何形状进行辐射。对辐照的Ti靶标的SEM分析揭示了明显的纹理，其表面形态具有各种可实现的表面形态，具体取决于αI。表面特征从具有指纹样图案（0≤αi≤60°）的斑块中的波纹变化到平行于离子束方向的定向结构，例如柱/尖端结构（65≤αi≤75°）和浅层波纹（αi至80°）。这种形态的选择性可以归因于竞争性扩散和侵蚀性方案，在这种情况下，形态的横向均匀性受到晶体晶粒尺寸有限的影响。最后，评估了特征性地形的润湿性和生物兼容性，与未经处理的表面相比，结果表明离子束纹理表面的性能提高了。
对生物相容性的影响
主要关键词
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